產(chǎn)品詳情
本設(shè)備由MOCVD沉積室,進(jìn)出樣品室,自動樣品傳遞桿,工作臺,特氣柜組成。可用MOCVD方式沉積ZnO。采用由下向上噴淋方式。氣盒優(yōu)化,專利設(shè)計(jì)。
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設(shè)備版本 |
B |
E |
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沉積室 |
方型真空室400×400×400mm |
方型真空室500×400×500mm |
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進(jìn)樣室 |
方形真空室350×350×350 mm |
方形真空室370×300×600 mm |
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極限真空 |
8×10-5Pa |
5×10-5Pa |
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真空獲得 |
分子泵+羅茨泵+機(jī)械泵 |
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樣品尺寸 |
220×220mm |
200×200mm |
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特氣運(yùn)輸 |
雙水浴源+四路流量控制+VCR氣路+管道烘烤+沉積室內(nèi)外烘烤 |
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壓力控制 |
進(jìn)口蝶閥+進(jìn)口薄膜規(guī)??刂品秶?~10torr. |
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樣品架溫度 |
室溫~350℃,溫度均勻性:±1℃. |
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沉積距離 |
基片到噴淋氣盒2~8cm連續(xù)可調(diào)整。 |
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噴淋方式 |
由下向上噴淋方式。氣盒出氣孔同軸出氣,差分出氣方式可選。 |
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氣盒面積 |
≤240mm×240mm |
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自動傳遞桿 |
電動控制,自動取送樣。 |
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控制方式 |
手動 |
PLC+觸摸屏,或PC機(jī)上位控制 |
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尾氣吸收阱 |
吸收未完全反應(yīng)氣體。 |
吸收未完全反應(yīng)氣體。 |
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樣品庫 |
雙工位,自動換位。 |
四工位,自動換位。 |
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特氣柜 |
安裝流量計(jì),壓力控制器,氣動電磁閥,氣動截止閥,單向閥。按鈕控制。 |
安裝流量計(jì),壓力控制器,氣動電磁閥,氣動截止閥,單向閥。手動控制,泄露報(bào)警。觸摸屏或PC控制 |
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樣品預(yù)處理 |
無 |
燈烘烤,烘烤溫度室溫~200℃,溫度均勻性:±1℃. |
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